《科创板日报》7月15日讯（编辑 宋子乔）今日，光刻机行业领军企业阿斯麦（ASML）公开了2026年第二季度的财务报告，核心数据超越了市场普遍预期。
在第二季，阿斯麦实现净销售额93.3亿欧元（上季度为88亿欧元），彭博分析师一致预期为88.5亿欧元；营业利润34.6亿欧元，市场预期30.7亿欧元；净利润29.2亿欧元，市场预期26.4亿欧元；毛利率达到54%，同样优于预期的52%。
阿斯麦指出，业绩超出预期的关键因素来自存量设备业务（The Installed Base business），该业务在第三季度达成28亿欧元的营收，较预期多出3亿欧元，主要原因在于客户急于提升生产效能，设备升级需求非常强劲。
阿斯麦同时分享了乐观的第三季度前景和全年业绩预测——
预计三季度净销售额介于110亿至120亿欧元（其中存量设备业务营收大约29亿欧元），市场预期为102.7亿欧元；预计毛利率55%–57%，市场预期52.5%。
对于2026年全年，阿斯麦预计销售额将在430亿-450亿欧元，先前预测为360亿-400亿欧元；预计毛利率54%–56%，先前预测51%–53%，市场预期52.5%。
需求旺盛促使阿斯麦积极进行产能扩张 长期订单签订至2028年
阿斯麦首席执行官克里斯托夫•富凯（Christophe Fouquet）在财报声明中谈道，终端市场需求强劲促使客户增加资本支出，从今年起，市场的设备需求显著增长。为此，阿斯麦也在不断扩大产能、增加人员，以便持续支持客户。
具体来看，当前存储芯片领域出现明显供给不足，所有客户都在推进相关产能扩张，EUV与高端浸没式DUV光刻机的需求同步增加。依据此，阿斯麦预计2026年存储业务的营收将提升75%。
阿斯麦提及，逻辑芯片与DRAM领域的客户都与其下游客户签订了长期合作协议，这推动阿斯麦的客户愿意下达长期订单，它们的设备采购计划不仅包括明年，还延续到更长的时期。
目前，其2027年所需的EUV设备订单基本全部确定，并且赢得了大量2028年EUV设备的远期订单。随着EUV设备需求复苏，DUV设备需求也将随之增长。
阿斯麦预计，2026年，低数值孔径（Low-NA）EUV光刻机将交付65台；浸没式DUV光刻机交付130台，产能与去年持平。
针对上述两类光刻机，阿斯麦计划，在2027年和2028年连续两年将其产能提高30%。
关于未来设备需求，阿斯麦点明了两大行业趋势：一是随着芯片制造工艺节点变得更加先进、工艺复杂度持续加深，客户对 先进光刻设备的需求持续增加；二是在 光学量测设备与电子束检测设备范畴，客户对相关设备的采用规模大幅提升。
对中国大陆市场，阿斯麦方面表示，在年度营收基数提高的情况下，预计2026年中国大陆市场仍将占公司总净销售额的大约20%，这一比例保持不变，新增需求主要集中在逻辑芯片业务板块。
阿斯麦还透露，英特尔晶圆代工正在应用其EXE High NA EUV光刻设备（EXE高数值孔径极紫外线光刻机），在英特尔18A工艺节点上生产部分酷睿Ultra 3（猎豹湖）处理器。
阿斯麦认为，这是一个极为重要的里程碑， 证实了该设备在技术上已经成熟。
EXE High NA EUV设备是阿斯麦目前最先进的设备，根据路透社之前的报道，单台价格大约4亿美元，是标准EUV设备的两倍，且技术引入难度较高。台积电曾经表示，该设备不适合大规模生产，将在未来的某个时间点才会转向采用这项技术。
